传日本方面将为IBM提供补贴，合作攻关2纳米制程工艺
在此前传出美日将联合开发2纳米制程技术后，日媒近期曝光更多细节，据报道，日经济产业大臣萩生田光一于5月2日至6日访问美国，重点参观了位于纽约州奥尔巴尼的IBM“纳米科技综合体”（Albany NanoTech Complex），并与在该设施驻点的厂商代表进行了座谈。
日媒分析称，美日先进制程技术合作，或将依托IBM奥尔巴尼研发设施进行，日本方面或参照与台积电合作模式，向IBM提供补贴，以换取其分享EUV光刻相关技术信息。（乐川）
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- 编辑：刘敏
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