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彤程新材:“ArF高端光刻胶研发平台建设项目”将于2023年末建成

  • 来源:互联网
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  • 2021-12-18
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12月17日,彤程新材在投资者平台上表示,根据公司发展战略,进一步深化公司在电子材料领域的业务布局,弥补国内光刻胶技术与全球先进水平的差距,研究ArF光刻胶,特别是193nm湿法光刻胶的工业化生产技术,确定193nm光刻胶工程化放大技术、标准的生产流程及质量管控体系,研发生产光刻胶高端产品。公司从实际需求出发,通过公司全资子公司上海彤程电子材料有限公司在上海化学工业区内使用自筹资金6.9853亿元,投资建设“ArF高端光刻胶研发平台建设项目”,项目预计于2023年末建设完成。

资料显示,彤程新材旗下北京科华微电子材料有限公司半导体光刻胶等业务2021年1-9月份实现业务订单销售9,375.85万元,同比增长51.6%,半导体用G/I线光刻胶产品较上年同期增长61.78%,KrF光刻胶产品较上年同期增长226.69%;北京北旭电子材料有限公司面板用光刻胶等业务2021年1-9月份实现营业收入19,520万元,同比增长26%,2021年7-9月光刻胶产品出货量同比增长30.5%;彤程电子年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目进展顺利,预计2022年开始分批投产。

同时,彤程新材在石墨烯领域也早有开展布局,投资北京石墨烯研究院有限公司,持有16%股权,是除北大资产经营有限公司之外的最大股东。北京石墨烯研究院是专注于石墨烯产业核心技术研发、高端研发代工服务、科技成果孵化转化的新型研发机构,北京石墨烯研究院有限公司是做为北京石墨烯研究院成果转化与产业化推进的载体。(Andy)

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  • 编辑:刘敏
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